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开放式集成电路工艺研发平台

研发中心拥有一个独立完整的开放式集成电路工艺研发平台,包括一个4500平方米的12英寸工艺线标准洁净厂房,其中洁净室使用面积3000平方米,洁净室支持区面积1500平方米,可装备一条完整12寸工艺引导线及部分特殊工艺设备,并可与国内12英寸大生产线进行无缝对接,进行硅片无污染流转,从研发技术直接拓展到生产技术,开展先进高性能工艺、特殊工艺模块以及新产品工艺研发和试制。目前已建成12英寸铜互连工艺线,正在建设12英寸FinFET工艺引导线。该研发平台可向所有的半导体生产厂商、设备及材料供应商和半导体研究机构开放,并根据具体的双边或多边协议,共同进行先进工艺技术、特殊工艺和产品技术研发。

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12英寸引导线净化间